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上海跡亞國(guó)際商貿(mào)有限公司是跡亞國(guó)際集團(tuán)位于中國(guó)上海的子公司。跡亞國(guó)際集團(tuán)其總部位于新加坡,其他子公司分布于馬來(lái)西亞,印度尼西亞和緬甸。我們的團(tuán)隊(duì)經(jīng)驗(yàn)豐富,技術(shù)力量強(qiáng)大,為大學(xué),科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)企業(yè)等提供了實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和工程設(shè)備,具有引導(dǎo)潮流的實(shí)力。我們提供的pointed end技術(shù)和設(shè)備,都被國(guó)內(nèi)主要機(jī)構(gòu)接受認(rèn)可。 我們的產(chǎn)品broad用于生命科學(xué):3D細(xì)胞培養(yǎng)、類organ培養(yǎng)等;組織工程:3D生物打印、生物芯片、微流控芯片、organ芯片等;材料科學(xué):半導(dǎo)體鍍膜機(jī)、旋涂?jī)x、光刻機(jī)、光刻顯影設(shè)備等;新能源:超聲波鍍膜儀、攪拌去泡機(jī)等;植物分析:植物3D掃描儀等;實(shí)驗(yàn)室工程:高稀釋射流風(fēng)機(jī)、快速響應(yīng)precise調(diào)控變風(fēng)量閥門(mén)等;

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江蘇光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米 歡迎來(lái)電 上海跡亞國(guó)際商貿(mào)供應(yīng)

2025-07-04 02:32:40

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)了基于阻變存儲(chǔ)器(RRAM)的存算一體架構(gòu)。其激光直寫(xiě)技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實(shí)現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%,計(jì)算能效比達(dá) 10TOPS/W,較傳統(tǒng) GPU 提升兩個(gè)數(shù)量級(jí)。基于該技術(shù)的邊緣 AI 芯片,在圖像識(shí)別任務(wù)中能耗降低 80%,推理速度提升 3 倍,已應(yīng)用于智能攝像頭和無(wú)人機(jī)避障系統(tǒng),相關(guān)芯片出貨量突破百萬(wàn)片。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng):120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,實(shí)現(xiàn)加工過(guò)程動(dòng)態(tài)監(jiān)控。江蘇光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

針對(duì)碳化硅(SiC)功率模塊的柵極刻蝕難題,Polos 光刻機(jī)的激光直寫(xiě)技術(shù)實(shí)現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設(shè)備,將 SiC MOSFET 的導(dǎo)通電阻降低 15%,開(kāi)關(guān)損耗減少 20%,推動(dòng)車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗(yàn)證新型柵極結(jié)構(gòu),使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,助力我國(guó)在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。安徽POLOSBEAM-XL光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米6英寸晶圓兼容:Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,工業(yè)級(jí)重復(fù)精度0.1 ?m。

SPS POLOS ?以緊湊的桌面設(shè)計(jì)降低實(shí)驗(yàn)室設(shè)備投入,光束引擎通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)高速掃描(單次寫(xiě)入400 ?m區(qū)域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 ?m間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗(yàn)證。其無(wú)掩模特性進(jìn)一步減少材料浪費(fèi),為中小型實(shí)驗(yàn)室提供經(jīng)濟(jì)解決方案62。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。

某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)致力于開(kāi)發(fā)快速、precise的疾病診斷技術(shù)。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時(shí),采用了德國(guó) Polos 光刻機(jī)。利用其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),科研團(tuán)隊(duì)成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測(cè)試劑的混合及反應(yīng)過(guò)程,極大提高了檢測(cè)的靈敏度和準(zhǔn)確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片,不only周期長(zhǎng),且精度難以保證。而 Polos 光刻機(jī)使制備周期縮短了近三分之一,助力該機(jī)構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關(guān)成果已發(fā)表在國(guó)際authority醫(yī)學(xué)期刊上。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。低成本科研普惠:桌面化設(shè)計(jì)減少投入,無(wú)掩膜工藝降低中小型實(shí)驗(yàn)室門(mén)檻。

在航空航天科研中,某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù),助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,齒距精度達(dá)到納米級(jí)別,極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性。基于此,科研團(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時(shí)間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,為未來(lái)微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。光學(xué)超材料突破:光子晶體結(jié)構(gòu)precise制造,賦能超透鏡與隱身技術(shù)研究。黑龍江PSP光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

未來(lái)技術(shù)儲(chǔ)備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。江蘇光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

柔性電子是未來(lái)可穿戴設(shè)備的core方向,其電路圖案需適應(yīng)曲面基底。Polos 光刻機(jī)的無(wú)掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實(shí)現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光,解決了傳統(tǒng)掩模對(duì)準(zhǔn)偏差問(wèn)題。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,開(kāi)發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測(cè)貼片,其傳感器陣列的信號(hào)噪聲比提升 60%。相比光刻膠掩模工藝,Polos 光刻機(jī)將打樣時(shí)間從 72 小時(shí)壓縮至 8 小時(shí),加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,推動(dòng)柔性電子從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。江蘇光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

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